光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

专利号：CN201811050984.9

公布日：2018-12-25

申请人：德淮半导体有限公司

一种CAD数据处理装置及CAD数据处理方法

专利号：CN201910625867.9

公布日：2019-09-27

申请人：宋凤玲

图形处理方法及装置

专利号：CN202310102242.0

公布日：2023-04-14

申请人：珠海金山数字网络科技有限公司

一种辅助图形的添加方法

专利号：CN201611259536.0

公布日：2019-10-25

申请人：上海集成电路研发中心有限公司

适用于网络的分布式图形版本管理系统及方法

专利号：CN202110907041.9

公布日：2021-11-26

申请人：国电南瑞科技股份有限公司;国电南瑞南京控制系统有限公司;南瑞集团有限公司

图形识别处理方法、装置、存储介质和电子设备

专利号：CN202110778430.6

公布日：2021-08-10

申请人：北京易真学思教育科技有限公司

一种多尺度图形识别方法及系统

专利号：CN202110634739.8

公布日：2021-08-13

申请人：汪知礼

光学邻近修正方法和装置

专利号：CN202310625840.6

公布日：2023-06-30

申请人：长鑫存储技术有限公司

一种版图图形的修正方法及系统

专利号：CN202211002917.6

公布日：2022-11-22

申请人：合肥晶合集成电路股份有限公司

FINFET多输入标准单元版图结构及半导体器件

专利号：CN202111005046.9

公布日：2021-11-30

申请人：上海华力微电子有限公司

目标版图优化方法

专利号：CN202211343908.3

公布日：2023-01-31

申请人：上海华力微电子有限公司

半导体器件版图结构

专利号：CN202310692640.2

公布日：2023-08-18

申请人：合肥晶合集成电路股份有限公司

双重图形曝光掩模制造方法及双重图形曝光方法

专利号：CN201010240544.7

公布日：2012-02-08

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

配对图形的插入方法、设备和存储介质

专利号：CN202010302925.7

公布日：2023-10-24

申请人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

光刻图形检测方法及系统

专利号：CN201911157399.3

公布日：2021-05-25

申请人：长鑫存储技术有限公司